中微公司CCP电容式刻蚀机已达到国际最先进技术水平7nm/5nm，在存储器中64层3D NAND已经实现量产，128层3D NAND稳步推进引领国内大规模进口替代，ICP电感式突破至1Xnm，未来有望导入产线加大应用；同时，公司开启平台化发展，参股沈阳拓荆（国内PECVD、ALD龙头）、Solayer（镀膜设备）并拟参股上海睿励（国内厚膜量测设备领先者），扩大业务领域，满足国内对薄膜设备、量测设备的等巨大需求，顺势做大做强。
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